清洗純水設備擁有非常高的脫鹽的效率,能夠承受生化化學的影響,受外界的自然因素(溫度、濕度、PH值)影響極小。 隨著現代工業的高速發展,光學行業對于產品的質量也在不斷提高,就清洗的水來說,為何不直接使用自來水,而要購買純水設備呢,源于自來水或其它水源含一些雜質、離子、細菌之類的對光學行業非常嚴重的影響。光學清洗純水設備應用包括很廣泛,如玻璃制品,手表鏡片,手機鏡片,眼鏡鏡片,相機鏡片,藍寶石鏡片,以及各種透明工藝品等行業。清洗是指清除工件表面上液體和固體的污染物,使工件表面達到一定的潔凈程度。清洗過程是清洗介質、污染物、工件表面三者之間相互作用,是一種復雜的物理過程。隨著純水,超純水在光學領域中的重要作用日益突出,純水水質已成為影響光學產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高。在光學產品生產中,純水主要用作純水清洗和純水配液,不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同。

1.光學清洗純水設備的清洗周期:
在正常運行條件下,清洗純水設備也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染,這些物質沉積在膜表面上會引起凈水設備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高,甚至對膜造成不可恢復的損傷,因此,為了恢復良好的透水和除鹽性能,需要對膜進行化學清洗。一般3~12個月清洗一次,如果每個月不得不清洗一次,這說明應該改善的預處理系統,調整的運行參數。如果1~3個月需要清洗一次,則需要提高設備的運行水平。
2.光學清洗純水設備反滲透膜的選用決定因素:
決定選用哪個系列的反滲透膜應該根據最終用戶對脫鹽率的要求,對運行壓力的要求,對污染速度和清洗頻率的要求以及進水的水質來確定。
3.光學產品對設備除鹽率要求很高的,需要客戶提供出水標準等相關數據才可以有針對性的報價,光學清洗純水設備目前均采用先進工藝制取,應用各種膜分離技術和電除鹽技術,從而來滿足高質量純水的制取。常用的工藝有如下兩種(光學清洗純水設備都在這兩種工藝流程上進行演變):
1、石英砂過濾+活性炭過濾器+軟化器+保安過濾器+高壓泵+二級反滲透系統+EDI系統+拋光混床系統
2、盤式過濾器+超濾系統+二級反滲透+EDI系統+拋光混床系統